作为光刻机巨头，ASML在出货方面并不自由。EUV光刻机研发制造出来后，ASML就不能自由出货，国内厂商早就全款订购一台，至今都没有交付，ASML承认是因为瓦森纳协定。芯片规则修改后，ASML的DUV光刻机出货也受到了影响，一般情况下可以出货，但在美生产制造的DUV光刻机，出货则需要许可。早些时候，ASML明确表示将向国内厂商提供其能够提供的一切技术，并对全球厂商一视同仁，还加速在国内市场的布局。

数据显示，中芯国际一次性与ASML签订了价值11亿美元的光刻机购买协议。ASML也向国内厂商出货了大量的DUV光刻机，国内市场成为ASML第三大市场，贡献了超14%的营收。但2022年10月份，美进一步收紧政策，限制更多半导体企业出货，并对ASML进一步游说，希望其收紧国际主流光刻机的出货范围。另外，美还联合日、荷兰等，希望在芯片方面进一步达成协议，这导致ASML的压力进一步增加。都知道，ASML主要靠出售光刻机获得营收和利润，先进工艺的产能过剩，成熟工艺的芯片仍很紧缺，DUV光刻机成了ASML出货的主力设备。于是，为了光刻机出货，ASML也开始孤注一掷了。

据悉，ASML首席执行官温宁克正式承认，美国主导的针对中国的半导体出口管制政策，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域，成功研发自己的技术。ASML温宁克如此表态，就等于是亮明了态度，就是希望能够继续出货，不希望在DUV光刻机等设备上，受到更多的限制。当然，ASML孤注一掷，也是因为以下几点。首先，ASML已经制定了目标，计划在2025年实现超300亿欧元的营收，而ASML的营收主要来自DUV光刻机和EUV光刻机。虽然EUV光刻机售价更高，但对于ASML而言，营收主要还是DUV光刻机贡献的。目前，全球先进工艺芯片产能已经过剩，成熟工艺芯片仍很紧缺，DUV光刻机主要就是生产制造14nm\28nm等芯片。一旦DUV光刻机出货受到更多的约束，将会直接影响ASML的营收，甚至是影响光刻机的生产制造。其次，国内厂商在半导体设备方面突破速度也比较快的，90nm光刻机已经实现了突破。

在DUV光刻机方面，消息称，上海微电子28nm精度光刻机已经通过技术认证，并在光源技术方面与英诺激光展开合作，相信不久的将来就会取得突破。这对于ASML而言，显然是一个更大的冲击。因为ASML已经明确表示High NA EUV光刻机将会是最后一代，目前还没有找到更好的技术替代，未来将会朝着更环保的方向发展。这就意味着ASML未来一段时间就靠EUV光刻机和DUV光刻机获得营收，而DUV光刻机又贡献了大部分的营收，ASML自然是不想被约束。最关键的一点，堆叠技术芯片、先进的封装技术都已经出现，都能在不改变芯片制程的情况下，大幅度提升芯片性能，这相当于是降低了ASML光刻机的依赖。更何况，光电芯片、量子芯片等已经成为研发新方向，这两种芯片都能够完全靠绕ASML的光刻机，否则，荷兰也不会投资11亿欧元到光电芯片领域。在这样的情况下，ASML自然要孤注一掷。