六氟化钨（Tungsten Hexafluoride，WF6）是由过渡金属钨元素和活泼非金属氟元素组成的一种无色气体，是用于微电子学生产过程中钨的化学蒸气沉积的一种气源，具有较大的密度、较强的腐蚀性和毒性等特点，主要应用于半导体工业的化学气相沉积工艺中，以沉积钨金属。然而，当前的生产技术却很难生产出高纯度WF6。

高纯六氟化钨

为了制备出超高纯度（99.9999%）且制造费用较低的六氟化钨产品，专利号为CN1281823A的研究者提出一种新的生产方法，具体步骤如下：

先将一定量的粗六氟化钨引入一个蒸发过程，用以分离成为一定量的含有挥发性杂质的WF6和一定量的非挥发性的金属杂质；然后，将该一定量的含有挥发性杂质的WF6通过一个气相吸附过程，用以分离成为一定量的半粗WF6产品和一定量的作为被吸附残余物的氟化氢；最后，将该一定量的半粗WF6送入一个UHP气体鼓泡系统，用以分离为非挥发的高纯六氟化钨产品。

高纯六氟化钨

值得一提的是，粗六氟化钨一般是纯度为99%的WF6，且含有大于1ppmv的氟化氢。另外，UHP气体鼓泡系统在温度高于3℃，压力大于0.5atm下操作，采用脉冲吹扫程序。

该生产技术的纯化是基于蒸发、气相活性吸附系统和鼓泡系统的结合。蒸发是为了从粗六氟化钨中除去非挥发性残余物。采用的气相反应性吸附床是为了从WF6中除去氟化氢和氟化硅杂质。采用的鼓泡系统是为了从产品中除去挥发性杂质。