众所周知，iPhone相机的鬼影问题已经存在很久了，实际上所有智能手机都面临这一问题的困扰。手机镜头由多片透镜构成，在强光照射下，光线在各层镜片之间多次反射，导致图像传感器捕捉到额外的光效，形成了所谓的“鬼影”。尽管这是普遍现象，但iPhone似乎尤为突出。

然而，根据海外科技博主在Naver博客的最新报道，苹果公司正在尝试采用新型抗反射光学涂层技术，旨在减少镜头的炫光和鬼影效应，以改善照片成像效果。据悉，苹果正在考虑在其iPhone相机镜头的制造过程中引入原子层沉积（ALD）设备。

原子层沉积是一种通过连续气相化学反应来沉积薄膜的技术，它可以在基材上逐层镀上单原子层物质，精确控制纳米级厚度和组分。这种技术可以在不影响传感器感光能力的情况下，有效保护镜头不受环境因素的影响。

利用ALD技术，摄像头镜头可以获得极薄的抗反射涂层，显著降低拍摄时因直接强光照射产生的光晕和鬼影。这有助于减少图像的失真，提升照片的清晰度与质量。

尽管目前还没有确切的消息指出ALD技术将首次应用于哪一代iPhone Pro版，但由于该技术的复杂性及对生产线的特殊要求，预计苹果会在技术完善并通过内部验证后，才会将其推广至大规模生产。因此，几乎可以确定iPhone 16系列不会配备这项新技术，想体验抗反射光学涂层镜头，只能再等一等了。