三星削减High-NAEUV光刻机采购量,与ASML合作研发案陷入争端

科闻社 2024-08-20 16:07:38

2024年8月20日,半导体行业传出重磅消息。韩国电子巨头三星电子(Samsung Electronics)近日决定削减其对下一代极紫外光(EUV)光刻设备的采购量,这一决定可能对其与荷兰半导体设备制造商ASML的合作研发项目带来深远影响。据韩国媒体Business Korea报道,三星与ASML此前达成的谅解备忘录(MOU)正面临变数,这一事件引发了业界的广泛关注。

2023年12月12日,韩国总统尹锡悦在访问荷兰期间,参观了ASML的总部。这次访问得到了高度重视,陪同人员包括荷兰国王威廉-亚历山大、三星会长李在镕(Lee Jae-yong)、SK集团董事长崔泰源(Chey Tae-won)以及ASML首席执行官Peter Wennink。在这次访问中,三星和ASML签署了一份谅解备忘录,计划在韩国首都圈共同建设一个EUV联合研发中心。此举标志着两家公司将在EUV技术领域展开更为深入的合作,旨在推进下一代半导体技术的发展。

然而,短短半年之后,这一合作项目的前景已蒙上阴影。根据报道,三星在7月初的一次内部会议上通知ASML,决定大幅削减其原定采购的High-NA EUV光刻设备的数量。具体而言,三星原计划在未来十年内采购超过三台ASML的下一代设备,包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600。然而,最新消息显示,三星目前仅决定引进EXE:5200型号,而是否采购后续型号将重新评估。这一决定是在全永铉(Young Hyun Jun)接任三星设备解决方案(DS)事业群负责人后,重新审视了正在进行的项目和投资计划的结果。

这一采购计划的调整,直接影响到了两家公司在韩国京畿道华城市(Hwaseong)共同建设的EUV研发中心项目。报道称,研发中心的土地采购和设计审批程序本已在稳步推进,但由于三星决定削减设备采购量,相关程序现已完全停滞。ASML与三星合作的研发中心是否会更改建设地点,甚或直接取消,目前尚无定论,这将是两家公司未来讨论的重点。

虽然三星高层表示High-NA EUV光刻设备的引进计划并未改变,并强调两家公司合作的研发中心将会在最合适的地点设立,但这一系列变动仍然引发了业内的广泛担忧。一位业内专家指出,如果三星与ASML能够按原计划推进合作,三星不仅可以在引进先进EUV设备上领先于竞争对手,还能够近距离参与和观察EUV技术的开发过程。然而,如果计划发生改变,三星可能会错失这些宝贵的机会。

此外,三星此举还可能对其在高端代工市场的竞争力产生负面影响。High-NA EUV光刻设备被视为下一代半导体制造的关键工具,其高精度和高效率将有助于推动芯片制造工艺的进一步提升。三星削减采购量的决定,可能会延缓其在先进制程领域的布局,从而影响其在与台积电(TSMC)等竞争对手的激烈竞争中占据优势。

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