光刻机是生产制造芯片的必要设备，美一直都在想法限制ASML出货先进型号的光刻机。

先是用瓦森纳协定限制EUV光刻机出货，随后又限制在美生产的DUV光刻机出货。

美还对ASML进行游说，要求收紧国际主流光刻机的出货范围，被拒后，美日荷就签订了三方协议，协议限制光刻机等先进半导体设备出货。

日本早就开始限制23种半导体产品出货，荷兰则则表示，将会配合美进行相关半导体设备的出口管制，9月1日生效，主要限制2000i等后续型号的光刻机出货。

但没有想到的是，9月1日荷兰方面就发布消息称，ASML获得继续出货TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的许可证，延长4个月至2024年1月1日。

ASML能够获得出货许可，主要因为以下几点。

首先，三方协议签订后，ASML最先透露消息，自然是希望国内厂商加速订购，这也表明了ASML不想被限制出货。

今年早些时候，ASML总裁在高层发展论坛上明确表示，如果不是瓦森纳协定，中国将会成为EUV光刻机最大的市场。

三方协议内容公布后，ASML又明确表示，中国市场至关重要，将会向中国厂商分配更多产能，出货更多光刻机，并向荷兰政府申请出货许可。

也就是说，ASML一直都在努力出货，并争取持续出货。

其次，中国市场对ASML很重要，已经是ASML第三大市场，在未交付的光刻机订单中，20%都来自国内厂商，订单金额超600亿元。

对于ASML而言，失去这些订单是无法承受的。

全球芯片产能已经过剩，尤其是先进工艺的芯片产能，台积电、英特尔等厂商，不仅削减了资本开支，还砍掉了部分光刻机订单。

ASML称新增光刻机订单数量下滑了40%，但中国厂商的准备却很充足，第二季度向国内出货27台光刻机，仅满足其需求的50%，这意味着中国市场对光刻机需求巨大。

ASMLEUV光刻机出货持续下滑，整体营收增长已经放缓，光刻机研发又遇到了技术瓶颈，未来的光刻机将更加注重效率。

对于ASML而言，中国市场是最佳的选择，所以一直加大在国内市场布局。

ASML今年将向国内开放超200个岗位，覆盖光刻机、计算光刻和量测业务三大业务线，包括客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门等。

最后，国产光刻机快速突破，上海微电子28nm精度的光刻机已经取得技术验证，国内产业链也有能力打造DUVi光刻机，能够用于7nm工艺。

台积电的态度都突然大变，不仅加速向国内出货7nmAI芯片等产品，还明确表示台积电根留台湾，规划建设三座2nm芯片工厂。

ASML财务总监表示任何国家不可能打造出来完整的芯片产业链，ASML也是集合全球超40个国家的技术。

无论是台积电还是ASML，都相当于变相承认了国内芯片产业链取得了突破。

更何况，高通已经公布了第三财季的数据，营收和利润均下滑，净利润更是大跌超50%，还在财务会议上发出了警告，面临全面失去华为芯片订单的风险。

对于ASML持续向国内出货先进光刻机，你们怎么看，欢迎留言探讨分享。