太解气了，西方卡中国的脖子，部分中国人幸灾乐祸的跟着鼓吹中国落后，他们说。连脚指甲盖大小的都做不出来，即便外国人给了中国图纸，中国也造不出来。事实告诉那些人，你们只是崇洋媚外的狗而已。

不是中国落后，只是起步晚。

这不，打脸就来了吗。

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来，跟着猫哥用不同的视角看世界，精彩点评在评论区。

在美国持续升级对大陆半导体制裁的情况下，ASML前CEO温宁克公开表示，称此举适得其反，中国人太聪明了，不把设备卖给他们，将会促使他们加快自主研发的脚步，一旦完成突破，西方企业将遭受重创。

事实证明，一语成谶，ASML的担忧是正确的。

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这句话中国科技和工程人员，反反复复的念叨了十几年，终于就在3月25日，中科院重磅官宣，成功攻克了全固态DUV光源技术。中国用固态激光技术撕开ASML专利铁幕，中科院全固态DUV光源突破性实现193nm波长输出，设备体积缩小50%、能耗降低70%，摆脱稀有气体依赖，为全球半导体产业链首次提供"中国方案"。

彻底绕开欧美光刻机专利围墙。从长春光机到清华哈工大，中国正用自主技术撕碎芯片霸权——当国产高阶光刻机爆发之日，西方数十年的技术封锁将化作数字时代的尘埃，而现代文明的基石将重新浇筑于东方实验室的激光束中。

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实现光刻机核心模块完全自主。这项技术将推动28纳米至7纳米芯片自主生产，降低维护成本30%，为新能源汽车等领域注入“中国芯”。“恰似暗夜中的一道曙光”，中国半导体产业迎来全新赛道。

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这项颠覆性技术虽暂处70mW低功率阶段，却以多重曝光路径直指3nm制程，更重要的是，对于我国半导体产业而言，此次突破的战略价值远超短期经济效益。若能在未来 3-5 年内实现固态 DUV 光源的工程化应用，让ASML垄断四十年的光刻机帝国面临"换道超车"的致命威胁。

面对中科院此次突破，荷兰《新鹿特丹商报》评论称：“中国用固态激光技术撕开了ASML的专利铁幕，这比美国芯片禁令更具杀伤力。”德国《明镜周刊》则哀叹：“中国光刻机的崛起，是对西方精密制造业的终极嘲讽。”。

虽然目前来看，这种技术离商业应用还有一些距离，但是当我国的国产高阶光刻机完全突破，那么西方在芯片领域的霸权时代将被彻底击碎，中国人必将芯片打成白菜价格。他们的光刻机一台卖到1.5亿美元，而我们的固态EUV连维护费用算上直接降低25%。全世界都惊呆了，还没啥ASML啊，就是大哥的那句话，你们还记得盾构机吗？不跟我好好玩，我就要你的命。

你对我爱搭不理，我也让你高攀不起。芯片又是现代文明技术发展的基石，所以接下来西方的科技优势将彻底丧失。

2023年初的时候，网上还有很多人说中国起码20年内造不出7纳米的半导体，我那时就说了按中国现在的发展速度，5年内可以做出7纳米，没想到才2年多过去，就干到了5纳米甚至更小

每一代人都有自己的上甘岭，芯片战就是科技战的上甘岭，中国人又胜了。

有人说这不是突破，而是开着歼36在碾压二战时期的螺旋桨，有道理。

最后让我们致敬那些，曾经不仅被外国人，还被我们自己同胞嘲笑痴人说梦的中国科学家和工程技术人员。