新凯来在这次上海国际博览会上面大放异彩，但是仍然面临多重挑战，尤其是来自美国的。

尽管新凯来在光刻机领域取得了一定的进展，但是与ASML相比仍然存在一定的技术差距。主要是技术路线发展的问题，虽然通过优化DUV光刻机，解决了一些问题，但是由于多重曝光的工艺复杂，良品率偏低的问题，仍然是新凯来进一步发展光刻机的拦路虎。

美国可能会进一步加强对于中国的技术封锁，进一步限制关键零部件和基础的出口，继续阻挠中国在半导体设备，尤其是光刻机领域的技术发展。

由于光刻机的结构复杂，需要涉及光学、材料、精密制造等领域，而供应链的稳定性是一个关键因素。虽然新凯来在部分领域取得了技术性突破，但是光刻机能否量产，仍然需要进一步验证。而供应链自主才是我们需要解决的核心问题。

虽然新凯来将会在国内市场上，取得进步，但是国际市场仍然被国际巨头主导。要想向国际市场进军除了在技术，品牌影响力以及成本上继续努力以外，也不能忽视美国的负面影响力。

新凯来在光刻机领域的突破，带给了我们希望，但是我们仍然面临很多技术难题，美国的出口管制，以及供应链稳定性的挑战。