一年两次:华中科技大学在光刻胶上又有突破

翰林中原说 2024-10-05 21:08:35
光刻胶市场占有率

光刻胶市场占有率主要由日本、‌欧美和韩国企业垄断。‌

日本企业在光刻胶市场上的地位尤为显著。‌日本企业擅长进行产业垂直整合,‌芯片公司多采用IDM模式,‌在材料和零部件领域也习惯于本地配套、‌本土供应,‌这种垂直整合产业文化使日本在光刻胶等材料领域逐渐建立起深厚的底蕴,‌形成了相对完备的半导体材料体系1。‌具体到市场份额,‌日本JSR、‌东京应化、‌日本信越与富士电子材料的市占率加和达到72%,‌显示出日本企业在全球光刻胶市场中的主导地位2。‌除了日本,‌美国和韩国企业也在光刻胶市场中占据一席之地。‌高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术基本被日本和美国企业所垄断,‌产品绝大多数出自日本和美国公司,‌如陶氏化学、‌JSR株式会社、‌信越化学、‌东京应化工业、‌Fujifilm,‌以及韩国东进等企业2。‌在全球光刻胶市场中,‌前五大厂商占据了87%的份额,‌显示出行业的集中度非常高。‌这五大厂商中,‌日本企业占据了重要的位置,‌进一步证明了日本在全球光刻胶市场中的领导地位2。‌中国大陆的光刻胶市场也呈现出一定的竞争态势。‌容大感光公司的PCB光刻胶产品在全球和国内的市场份额中占有一席之地,‌其中PCB光刻胶约占中国大陆市场25%左右、‌约占全球市场15%左右的份额3。‌

2024年4月2日:科技日报报到华科大突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术

2024年4月2日,科技日报报道了关于华中科技大学突破双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术,并且这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证,并同步完成了各项技术指标的检测优化,实现了从技术开发到成果转化全链条打通。

4月2日,记者从华中科技大学获悉,该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队,突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前发表在《化学工程杂志》上。

据介绍,这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证,并同步完成了各项技术指标的检测优化,实现了从技术开发到成果转化全链条打通。

据悉,该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向,同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备。

2024年8月13日,关于华科大光刻胶再现新消息:成功研发出高性能量子点光刻胶

根据2024年8月13日透露的消息:“湖北光谷实验室传来好消息,该实验室与华中科技大学集成电路学院、光电子器件与三维集成团队以及广纳珈源(广州)科技有限公司合作,成功研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR)。这一创新成果有望为Micro-LED全彩显示技术带来重大突破,推动AR、VR等领域的发展。”

8月13日,据“光谷实验室”消息,近日,湖北光谷实验室传来好消息,该实验室与华中科技大学集成电路学院、光电子器件与三维集成团队以及广纳珈源(广州)科技有限公司合作,成功研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR)。这一创新成果有望为Micro-LED全彩显示技术带来重大突破,推动AR、VR等领域的发展。

Micro-LED显示技术因其高分辨率、高亮度、高对比度、宽色域等优势而备受关注。然而,实现全彩化显示一直是该技术面临的挑战之一。目前主流的RGB三色micro-LED全彩技术存在诸多问题,如巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂等。此外,随着micro-LED尺寸的减小,红色LED的发光效率急剧下降,进一步加剧了全彩化显示的难度。

为了解决这些问题,研究团队采用了单色蓝光micro-LED激发绿色和红色荧光材料的方法,以实现全彩化显示。而胶体量子点因其发光半峰宽窄、颜色可调、效率高、粒径小等优异性能,成为配合蓝光micro-LED的理想荧光材料。

在实现量子点像素化的过程中,光刻技术因其高精度和获得的量子点像素小而备受青睐。然而,当前量子点光刻技术仍存在发光效率低、像素精度不够高、蓝光转换效率低、稳定性差等问题。针对这些问题,研究团队研发出了高性能量子点光刻胶(QD-PR)。

据悉,该量子点光刻胶的蓝光转换效率达到44.6%(绿色)和45.0%(红色),光刻精度达到1um,各项性能指标均为行业领先水平。基于这一高性能的量子点光刻胶,研究团队实现了高精度的量子点像素,并展示了其在显示应用方面的潜力。

此外,这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性。在空气中75℃加热120小时后,仍能保留原始发光性能的92.5%(红色)和93.4%(绿色)。通过红绿量子点套刻,配合蓝色面光源,研究团队获得了高精度的基于量子点色转换像素的静态图案,进一步验证了该量子点光刻胶的显示应用潜力。

结语

一年之中,华中科技大学在光刻胶方面就有如此多的重大突破,并且就目前来看,产品已经研发出来了,并且有相关测试及验证,以后就只需镜像量产就行。更为主要的是,相关的光刻胶技术具备完全的自主知识产权,不用担心国外卡脖子等系列问题,同时相关产品成本低,的稳定性也更高,更加适合我国相关企业的使用。

期待我国各大科研机构共同努力,解决更多的卡脖子问题!

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翰林中原说

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