在全球科技竞争日益激烈的背景下,我国在光刻机领域不断发力,近期迎来了一项令人瞩目的突破。哈工大官方官宣成功搞定 13.5 纳米极紫外光源,这一消息如同一颗重磅炸弹,在科技界引起了广泛的关注和讨论。
然而,令人玩味的是,美国、ASML 与台积电在此消息传出后却一直保持沉默。这种沉默或许反映了他们对这一突破的复杂心态,亦或是在审慎评估这一突破对其产业地位可能带来的影响。
但在这看似平静的表象之下,新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台的表态却格外引人瞩目。拥有超过 40 年投资经验的王国辉,对中国市场有着深刻理解,他明确看好中芯国际,认为其将凭借本土优势在全球市场与台积电一较高下,甚至有望在市值上追平台积电。
中芯国际的发展潜力不容小觑,国内庞大的市场为其提供了坚实的后盾。但长期以来,缺乏一台国产 EUV 光刻机一直是制约其发展的关键因素。而如今,随着哈工大在极紫外光源技术上的突破,国产 EUV 光刻机的成功研发似乎越来越近,这无疑为中芯国际的跨越式发展带来了新的希望。
哈工大此次突破意义非凡,其采用的 DPP 技术——放电等离子体极紫外光刻光源,与美国 Cymer 公司的传统 LPP 技术以及荷兰通过透镜技术获得极紫光的方式截然不同。哈工大通过粒子加速辐射取得极紫光的创新性方法,展现了中国在光刻机领域的弯道超车能力和惊人的进化速度。这种方法不仅效率更高,而且难度更大,但在精准度方面却毫不逊色。
这一突破是我国科研人员不懈努力和创新精神的结晶,彰显了中国在高科技领域突破封锁、实现自主创新的坚定决心。国产光刻机技术的每一次进步,都在拉近我们与世界先进水平的距离,也让我们看到了打破国外技术垄断、实现芯片产业自主可控的曙光。
随着技术的不断完善和发展,我们有理由相信,国产光刻机将迎来更加辉煌的明天,中芯国际等国内芯片制造企业也将在全球舞台上大放异彩,为推动我国芯片产业的崛起和发展贡献力量。
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