ASML在中国的深耕多年,不仅设立了多个办事处,还与中国的半导体企业建立了紧密的合作伙伴关系。这种合作不仅包括销售和技术支持,还涉及共同推动当地半导体产业的发展。2023年,尽管面临国际政策的限制,ASML在中国市场的业绩却出乎意料地好。公布的数据显示,公司在这一年里累计售出的450台光刻机中,大部分为DUV设备。这些设备的销售贡献了超过以往任何时候EUV光刻机的营收。特别是在去年的第三和第四季度,中国大陆成为ASML最大的营收来源,公司全年的营收比前一年增长了近30%。这一成绩清楚地表明,即便是在高端产品受限的情况下,中国市场的潜力依然巨大。
随着技术的不断进步和市场需求的增加,光刻机的角色变得越来越重要。ASML作为行业内的佼佼者,其产品对全球半导体制造业的影响深远。尽管在中国大陆,ASML受到了一定的出货限制,但这并未阻碍公司在2023年取得骄人的业绩。实际上,ASML通过销售中低端DUV光刻机,不仅稳固了其在中国市场的地位,还显著提升了其全球营收。这些成绩反映出,即便面对严峻的外部挑战,ASML依旧能够通过灵活多变的策略,保持在全球半导体设备制造业中的领先地位。在全球半导体领域,ASML的光刻技术被视为推动先进芯片生产的关键力量。特别是,随着NA EUV光刻机的问世,ASML再次将芯片制造技术推向了新的高度。这种技术能够生产2nm及以下的芯片,对于半导体行业来说是一大飞跃。英特尔作为全球芯片制造巨头,成为了首批获得这项技术的公司之一。3月初,英特尔发布的开箱视频揭示了ASML最新一代光刻机的惊人规模和复杂性。据报道,这台光刻机的运输就需要250个货箱,总重达150吨,而每台光刻机的价格高达27亿人民币。目前,ASML已经接到了10至20个这样的光刻机订单,这不仅体现了其技术的领先地位,也预示着未来芯片制造的新方向。
然而,对于中国来说,尽管国内也有光刻机制造商和研发进程,但要达到ASML这样的技术水平,还有很长的路要走。历史上,中国在技术突破方面有着令人瞩目的记录。曾经由西方国家垄断的盾构机技术和高性能钢材(俗称“手撕钢”)都已经被中国科研人员成功突破,并实现了从追赶到领先的转变。这些例子给予了中国光刻机技术发展的希望,尽管面对的是ASML这样的技术巨头,中国企业和科研机构的努力可能最终也将打破现有的技术垄断,创造出属于自己的光刻机技术。外媒的观点认为,中国在光刻机技术的“弯道超车”策略目前看来并未成功。尽管这样,不能忽视的是,技术发展总是充满了不确定性和挑战。今天的技术领先者未必就能保持永远的领先,而今天的追赶者也有可能在未来某一时刻实现突破。对于ASML而言,中国市场的巨大潜力是不容忽视的。同时,中国自身在技术创新和研发方面的不懈追求,也许能在不久的将来带来新的突破,为全球半导体产业的发展贡献新的力量。
像汽车,我们才能弯道超车才行。芯片行业也是如此另辟捷径
给中国时间,沒有什么做不出来
中国起步晚,肯定受影响。中国一直在受封锁并努力突破的路上,相信一定会越来越好。
弯道超车是专家说的。