现如今科技发展的非常快速，对于芯片技术来说各个国家也在不断竞争。

那么在芯片制造的多个设备里，EUV可谓是非常厉害的一份子，它也叫做极紫外线光刻机。

一直以来，荷兰的ASML公司凭借自己对EUV光刻机技术的垄断，一直掌控着高端芯片制造设备的话语权。

但是这几年，我们国家在半导体领域的不断努力，在光刻技术上也有了质得飞跃，正在想办法把这个垄断给打破，而今日，ASML：中方开始关闭EUV光刻机的大门？

在2018年的时候，ASML里面的一位高管表示就算把图纸交给中国，我们也没办法制造出光刻机。

这种嚣张气焰就是他们公司自身对光刻机技术垄断的自信，可是他们没想到，短短几年，我们国家就用行动让他们无言以对。

3月25日，我们国家科学院表示全固态深紫外激光光源研发成功了，这项技术直接让相关行业的人震惊不已。

为什么会这样呢？两者有什么大的差距吗？

对于ASML公司的DUV光刻机，它们依靠的是氟化氙准分子激光技术，这种技术依靠气体混合的产出193nm波长的紫外光。

虽然很厉害，但是也有一些不好的地方，比如说能耗大，维护保养价格非常的高昂。

可是我们国家研发的固态DUV光源和它们的不一样，是借助Yb：YaG晶体来产生1030nm的红外激光，而且是通过谐波转换和光学参数放大之后混合成的激光。

这个技术不需要ASML公司的专利，而且在材料和工艺方面是全自主的，还非常的节能环保。

这个技术对我们国家半导体行业来说有着巨大的意义，但是对于ASML公司来说，那就是动了他们的蛋糕，也就是他们垄断技术的问题。

一旦我们国家实现量产，那么EUV光刻机的地位直接就衰减，对他们的利益造成比较大的影响。

而且，我们国家本身对于光刻机的双工件台、光刻胶等配套技术已经很成熟，这次在光源方面的突破更是让整个产业链更加的完整，有助于提升整个产业在国际上的竞争与影响力。

除了这些，我们国家新研发的这个光源在能耗方面可是很不错的，比较节能，这样就把成本降低了，也提高了价格优势。

此前，ASML也做出了相关的举措来维护他们的产业，他们加大了下一代的技术的研发投入，想通过升级技术来保持甚至提高他们现如今的成绩。

而且，他们还推出了新的营销策略，比如说对一部分维修中心进行升级，以此来提高公司在中国的影响力。

想法是好的，可是现实不会那么顺利，在这个过程中美国又掺和了一脚，对ASML进行了施压，导致他们停止对一部分设备进行维修服务。

这种矛盾的情况恰恰表示我们国家在不断向上冲的体现，他们也在担忧中国会在这一领域超越他们。

虽然说我们国家在固态DUV光源技术上有了巨大的进步，可是想要量产的话还是需要努力，比如说提高光源功率、设备的稳定性和可靠性等等。

而且目前来说，全球半导体产业的竞争十分的剧烈，就拿ASML公司来说，就不会轻易的坐等中国来打破他们的技术垄断。

而是会采取一些措施来进行围猎，对于未来的技术竞争和市场竞争可能会更加的激烈。

不过总的来说，我们国家的这项技术已经有了明显的成果，也正在不断的进行投入，就是为了让技术变得更加的成熟，从而逐步的改变全球半导体产业的格局。

从曾经被断言拿着图纸也无法制造到现如今开辟了一条新的路径，中国半导体领域的进步也证实了就算是在技术封锁中，我们也会不断的寻找机会进行突破。

当然这场半导体领域的竞争不仅仅是技术层面的较量，更是国家的综合实力、创新能力以及优质战略的对抗。

对于中国来说，虽然在DUV光刻技术上取得了一定的进展，但是未来的道路还很遥远，我们国家还需要继续加大研发投入，培养更多的专业人才，以此来进一步完善半导体的产业链。

希望我们国家在半导体技术中不断的进步，可能在不久的将来，不仅能够实现高端光刻机的自主量产，还能够在全球半导体市场中占据重要的位置!

参考资料：

电子工程网——中科院研究人员成功研发突破性固态深紫外（DUV）激光，光源波长与DUV曝光技术一致