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在最近的欧洲开放创新平台(OIP)论坛上,SMC宣布其N2P知识产权(IP)正式对客户开放,这标志着半导体创新的一个重要里程碑。这一消息为利用台积电(TSMC)先进的N2工艺开发2nm芯片铺平了道路。预计到2025年底,TSMC将开始N2工艺的大规模生产,而A16工艺则计划在2026年底投产。这一时间表凸显了TSMC在实现更小、更高效的芯片节点方面的领先地位。
行业内部人士更新了关于TSMC的最新进展和市场走向。他们确认,2nm的量产预计将在2025年下半年启动。在此之前,TSMC的第三代3nm工艺N3P将在2025年主导市场。高通的第二代骁龙8 Elite(SM8850)将利用这一先进的N3P工艺,预示着其在旗舰设备上的广泛应用。尽管有些早期测试采用了三星的SF2工艺,但行业偏好已向TSMC的N3P倾斜,进一步巩固了其作为高性能半导体可靠选择的地位。
这一新一代芯片承诺比今年的技术性能提高20%,同时还具备创新的单帧级省电特性。这些进步有望使该平台在2025年底成为高端设备的主流,确保其成为高端消费电子产品的标杆。
TSMC的路线图展示了从2025到2026年一系列开创性的半导体技术进展。N2P和N2X工艺,以及A16节点,代表了芯片设计的飞跃。这些节点共享关键技术特点,如采用全环栅(GAA)晶体管和高性能金属-绝缘体-金属(SHPMIM)电容器。这些创新承诺显著提升晶体管性能和能效。
值得注意的是,A16工艺将整合TSMC的超电源轨架构或背面电源供应技术。这一设计变更将允许芯片前面有更多的布局空间,从而提高逻辑密度,为高性能计算(HPC)应用提供更好的性能。这种架构转变预计将满足人工智能、HPC及其他数据密集型领域日益增长的需求。
苹果一直是TSMC尖端工艺的早期采用者,从3nm芯片在其手机和电脑中的首次亮相,到预计将采用的2nm技术。这种合作体现了TSMC与苹果之间的共生关系,苹果的设备成为最先进半导体创新的试验场。
从3nm到2nm的转变不仅仅是一个数字的进步,而是半导体制造的新纪元。晶体管尺寸的不断缩小使得同一芯片内组件的集成度更高。这项进步不仅提升了计算速度,还显著改善了能效。凭借这些技术突破,TSMC准备引领行业迈向更小、更快、更节能的芯片新时代,为消费电子和工业电子产品的下一波创新奠定基础。
在这个快速发展的半导体行业,TSMC凭借其先进的技术和创新能力,正引领着未来的方向。可以期待,随着N2P技术的问世,我们将看到更多令人振奋的电子产品创新。准备好迎接更高效、更智能的设备了吗?让我们拭目以待!