技术细节上，团队掏出了“局域接触工艺”这种硬核操作。简单说就是在电极边缘盖个绝缘层窗口，让钙钛矿材料和危险区域物理隔离。传统光刻工艺搞电极时，材料动不动就被化学试剂腐蚀，他们这招直接让材料存活率飙升。实测数据更狠：绿色和近红外LED在3.5微米到百微米区间，外量子效率稳在20%左右，比现在商用的III-V族半导体LED强了不止一个身位。
应用层面已经有实锤进展。和杭州领挚科技联手搞的有源矩阵微显示器原型，分辨率飙到127,000 PPI——这数字比现有最高纪录翻了倍。别家还在为AR眼镜的像素密度头疼，他们已经在实验室里播高清视频了。更可怕的是钙钛矿天生的色彩优势，色域覆盖比OLED还广，未来要是能解决寿命问题，怕是连苹果都要连夜改供应链名单。
显示行业现在就像被架在火上烤。传统Micro LED困在微米级尺寸十几年，三星、索尼砸了上百亿也没解决巨量转移的良率问题。浙大这波直接绕开物理极限，把战场拉到纳米级别。要是真能量产，头戴设备的像素密度能再翻十倍，医疗显微显示、光通信这些高精尖领域怕是要集体换代。
结语：这技术离商业落地还差三座大山——材料稳定性、量产工艺、成本控制。但关键是它证明了纳米级LED不是天方夜谭。现在全球显示巨头都在死磕量子点，突然杀出个钙钛矿路线，专利战争恐怕会比技术突破来得更快。五年之内，谁先解决材料退化问题，谁就能在下一代显示标准制定中抢到话筒。中国企业这次冲在最前面，但千万别倒在量产前的黎明黑暗里。
