在半导体制造设备领域，阿斯麦（ASML）再次展现了其强大的市场影响力和技术创新能力。根据最新数据，阿斯麦2023年的设备出货额达到了惊人的237亿美元（约合1674.69亿元人民币），相较于2022年实现了48%的大幅增长。这一成绩的背后，离不开其客户台积电、三星电子和英特尔对最先进逻辑半导体生产设备的竞相订购，尤其是极紫外（EUV）光刻机这一关键设备。

EUV光刻机作为半导体 制造中的核心设备，对于生产高精度、高性能的逻辑半导体至关重要。随着技术的不断进步，High NA EUV光刻机成为了当前市场上的热门产品。High NA EUV光刻机相较于传统的EUV光刻机，具有更高的分辨率和更低的制造成本，因此在逻辑半导体生产中具有更大的应用潜力。

在近日举办的SPIE大会上，英特尔院士兼光刻总监Mark Phillips展示了英特尔在波特兰工厂安装的两个High NA系统。这些系统所呈现出的图像质量令人惊叹，不仅展示了High NA EUV相对于标准EUV的显著改进，还预示着其在实际应用中的巨大潜力。Mark Phillips表示，由于团队的不断学习和优化，第二个系统的安装过程相较于第一个更加迅速和高效。

阿斯麦在EUV光刻机领域的领先地位，不仅得益于其深厚的技术积累和创新实力，更离不开其与客户之间的紧密合作。台积电、三星电子和英特尔等全球领先的半导体制造商，都是阿斯麦的重要客户。这些客户对于最先进半导体生产设备的需求，推动了阿斯麦在EUV光刻机技术上的不断突破和升级。