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前言

光刻机这种在芯片制造领域中至关重要的设备，由于其技术的复杂性，一直以来都被视为芯片制造的明珠。

长期以来，我国在这一领域都处于落后地位，甚至还遭到美国的制裁，然而前段时间，我国却突然官宣了国产光刻机技术取得的突破。

在国内为这一消息欢欣鼓舞之时，不少国外网友也沸腾了，但令人奇怪的是，美国和荷兰却没有相关的报道回应。

国产光刻机官宣新突破

作为芯片生产制造中最基础但却也是最关键一环的设备，一台光刻机就由数以万计的零部件所组成，一直被称为“半导体工业皇冠上的明珠”。

由于光刻机集合了包括数学、光学、图像识别等多个高端领域的顶尖技术，因为其技术复杂性，起步较晚的我国长期以来都远远落后于世界先进水平。

近年来，在美国实施了光刻机及芯片相关技术和设备的出口限制后，我国也开始尝试取得突破，但一度有国外专家声称，就算给我们全套图纸也造不出光刻机。

而光刻机被“卡脖子”，不仅对我国的芯片制造产业造成了严重困扰，也成为了一直以来萦绕我国的阴影。

就在不少人都认为我国很长一段时间内都无法突破技术瓶颈时，前段时间，工信部刊发的我国重大技术推广应用目录中，却公布了两种国产光刻机。

而这也意味着在光刻机这一堪称国之重器的设备上，我国已经实现了重大技术突破，甚至有望在未来实现国产设备大规模商业推广应用。

不过为在我国的光刻机取得新的技术突破感到兴奋的同时，也要注意到，国产光刻机技术即便完成突破，但和世界先进技术相比，还是存在着较大的差距。

套刻精度最高能做到8nm

按照目录中所给出的两台国产光刻机的技术介绍，我们可以了解到，这两台国产光刻机一台使用的是氟化氪（110nm）技术、另一种则使用氟化氩（65nm）技术。

简单来说，这两种光刻机都属于是深紫外（DUV）光刻机，算是全世界光刻机技术迭代中的第四代光刻机技术。

而根据相关参数的介绍，较为先进的“氟化氩光刻机”可以在193nm波长的光源下，实现65nm以下的分辨率以及最多8nm的套刻精度。

不过由于要实现8nm的最高精度需要经过多重曝光才能做到，其背后的极高成本以及低良品率问题，使得这台光刻机无法实现8nm芯片的量产。

一般情况下，如果按照套刻精度和量产工艺之间1：3的关系来看的话，这台国产光刻机应当已经能实现28nm工艺芯片的量产工作了。

如果和ASML相比，这台国产光刻机的技术差不多和其算得上“落后”的TWINSCAN XT：1460K的参数接近，但套刻精度却依然存在差距。

尽管还没法做到和目前最先进的芯片制造技术比肩，但这样的突破已经实现了国产光刻机“从0到1”的历史性突破，如此成就也引得不少国外网友为之沸腾。

国外网友对中国光刻机突破沸腾

受到国外媒体的长期影响，在向来以唱衰中国为主流的国外的相关新闻报道和论坛上，这次却意外有不少国外网友都对这次我国取得的技术突破感到赞叹和惊讶。

在油管上，美国网友表示“中国干得好。这对全世界都有好处，对科学也有好处，对发展也有好处。对新保守派来说却很糟糕。”

还有网友表示，此前的历史经验已经证明了“人们嘲笑中国汽车，人们嘲笑太空计划，人们嘲笑造船业，现在谁在笑。你可以嘲笑中国芯片技术，这只是时间问题，中国在笑。”

而在国外新闻论坛上，有国外网友表示美国对中国的制裁只得到了反作用，“这一制裁正在慢动作地自掘坟墓，向全世界发出信息：过度依赖美国是对国家安全的威胁。伤心”

还有的网友则拿此前华为被制裁后来技术突破举例子，在之前还依赖美国芯片和技术时，被美国制裁，如今却已经实现了新的技术突破。

不过，虽然国内外网友都一片欢腾之象，但美国和荷兰这两个最不愿意看到我国光刻机技术突破的国家却并没有做出回应。

就连光刻机龙头企业荷兰的ASML公司这次也没有发布评论，这究竟是为什么呢？

国产光刻机虽突破但仍有较大差距

实际上，虽然这次国产光刻机取得突破确实令人兴奋，但也要清楚的认识到，根据公布的光刻机的技术参数，也只能做到量产28nm芯片的工艺。

而ASML公司在高端EUV光刻机领域深耕多年，最先进的光刻机早就已经能够实现7nm芯片的量产工艺。

我国这次成功突破的“氟化氩”光刻机，在ASML公司中也只能算作中低端产品，早在2009年其就已经实现了这样的技术。

换句话说，我国的光刻机技术和世界先进水平相比，还有着接近15年左右的技术差距，这也是为什么美国和荷兰并没有作出回应的原因，在他们看来中国还有很长的路要走。

不过这样的成就也不代表毫无建树，毕竟实现中低端成熟工艺量产技术的突破，就已经能在全球芯片市场中抢占下很大的份额了。

ASML公司的CEO就曾经表示，在如今的芯片市场中，尤其是汽车行业的车机中，都需要我国提供的大量成熟技术制造的旧一代芯片。

尽管目前我国光刻机技术还没能做到世界领先，但以我国公布一代、储备一代、研发一代的惯用操作来看，可能光刻机技术已经实现了更先进的技术突破也不一定。

结语

相信这次光刻机的技术突破只是芯片领域国产化的开始，在不远的将来，这一领域也将如同此前的历史经验一样，实现从无到有，从有到强的完全突破。

信息来源：

中华人民共和国工业和信息化部《工业和信息化部关于印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知》2024-09-09

人民网《工信部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》》2024-09-15

大象新闻《工信部公布了重大技术工业设备推广目录：氟化氩光刻机》2024-09-14

雅虎财经《China touts home-grown chip lithography machines amid semiconductor self-sufficiency drive》2024-09-15

Wccftech《China Might Be 15 Years Behind US, ASML In Chipmaking Suggests Official Document》2024-09-16