光刻胶是微电子领域之中的一个细图加工最主要的工具，近年来经济快速发展，芯片，集成电路等行业都得到了极大的发展，而光刻胶作为这些行业的下游产业链，同样的迎来了自己的发展。

光刻胶首次被发现是在20世纪五十年代，那个时候的它还只是用于印刷行业，之后在一次偶然中，科学家发现这种光刻胶它在经过阳光照射后，本身的形态会发生改变，显象也会出现问题，那个时候的人们还并未有过多的探究，只是以为复印机不能在阳光下进行工作，于是当时的复印机都是在室内，鲜少在室外，原因就是怕光刻胶产生变质。

但是由于生产的逐渐壮大，场地有限，复印机有的搬在了室外，可变质的问题也接踵而至，于是科学家最先着手解决的是如何让光刻胶在太阳下不变质，后来却发现，这种光刻胶在阳光下暴晒变质之后再涂在硅体表面可以形成一个胶膜，也就是拍照所用的胶片。

在后面日渐的研究之中，光刻胶的应用越来越广泛，作用也越来越宽泛，它一共可以分为三种类型，第一种是光聚合型，这是一种最初级的，可以形成正象，而第二种是光分解型，经过太阳的暴晒后也是会发生反应的，可以制作成正性胶，第三种是光交联型，这是目前来说比较高级的一类胶片，它的功能和作用非常齐全，是目前应用的最多最宽的一类胶体。

一、彤程新材

营业总收入：17.14亿，同比增长14.26%

旗下企业北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

二、安集科技

营业总收入：4.71亿，同比增长52.43%

根据光刻胶下游应用领域不同，公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。公司产品光刻胶去除剂是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品。

三、南大光电

营业总收入：7.09亿，同比增长65.11%

公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

四、江化微

营业总收入：7.92亿，同比增长40.5%

公司主要从事超净高纯试剂、光刻胶及光刻胶配套试剂等专用湿电子化学品的研发、生产和销售业务。公司产品主要适用于平板显示、半导体及LED、光伏太阳能以及硅片、锂电池、光磁等电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影等制造工艺过程中。

五、芯碁微装

营业总收入：2.92亿，同比增长133.20%

公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统等。

六、容大感光

营业总收入：5.70亿，同比增长51.1%

公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。