什么是光刻？

光刻是集成电路（IC或芯片）生产中的重要工艺之一。简单地说，就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。硅片上涂有二氧化硅绝缘层和光刻胶。光刻胶在紫外光照射下很容易被显影剂溶解，经过溶解和蚀刻后，电路图案就会留在基板上。

什么是光刻胶？为什么500nm紫外线波长必须被阻挡？

光刻胶与树脂、溶剂和添加剂结合在一起。光刻胶的感光范围为200nm-500nm。因此，许多半导体实验室会采用黄光来阻挡500nm紫外波长，以防止光刻胶曝光过度或过早曝光的情况。

为什么用黄光?

因为黄光的波长较长, 难以使得光刻胶曝光, 因此将黄光作光刻区域的照明光源。

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