科技是国家发展的命脉，只要掌握了核心科技就能够在国际上获得一席话语权。如今我国已经有一些技术在世界上取得了一定的成就，但这却威胁到了美国科技大国的地位，于是美国便开始在“芯片”领域对我国展开限制。

想要生产芯片就必须要有光刻机，而在光刻机领域荷兰ASML公司处于垄断地位。在美国修改相关规定之后，ASML就开始限制出口我国光刻机。如今ASML公司的光刻机技术传来了新消息，这会对我国造成什么样的影响呢？

光刻机是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备，而世界上唯一一家能够量产EUV光刻机的公司就是ASML。ASML市面上的光刻机分为DUV光刻机和EUV光刻机，DUV 光刻机只能做到25nm的芯片，而EUV光刻机则能做到10nm以下精度的芯片。

为了限制中国芯片生产的技术，美国禁止ASML公司向中国出口EUV光刻机，这就让我国10nm以下的芯片制造受到了限制。我们需要知道一台EUV光刻机需要10万多个零件，其内部结构非常复杂，稍有一点误差都会影响芯片的制造，因此想要自主研发非常困难。

早在2021年我国曾与ASML公司签订了订购EUV光刻机的合约，预计花费77亿人民币采购一批EUV光刻机，平均下来每台光刻机价格为10亿元。然而在美国修改相关规定之后，我国与ASML之间的合作被迫中止。

能够付出如此高昂的价格采购EUV光刻机，可见其对我国的重要性，然而ASML公司又研发出了更精密的光刻机，不过这种更精密的光刻机却与我国没有半毛钱关系。

EUV光刻机最多能够制造3nm的硅基芯片，但如今3nm的芯片已经不能满足各个高科技企业的需求，想要生产更高精度的芯片就必须要升级光刻机。为了满足市场的需求，ASML公司便将EUV光刻机升级为High-NA EUV光刻机。

High-NA EUV光刻机将透镜的数值孔径从0.33提高到0.55，减少了对微电路的绘制次数，大大降低了芯片的制造成本并且在制作时间方面也有所减少。当High-NA EUV光刻机实现量产之后，各大企业的芯片制造将有可能会迎来重大的突破。

ASML公司表示，当前High-NA EUV光刻机的物镜系统、光源以及工作台等重要部件已经到货，在2023年就能够正式发布，在2024年能够实现量产。而这种光刻机的售价也比EUV光刻机高出许多，据了解一台High-NA EUV光刻机的售价约为25.2亿元。

即便是价格如此高昂也有许多半导体厂家重金求购，毕竟能够率先研发出2nm的芯片将会对让半导体厂家率先占领芯片市场。不过这种升级版的EUV光刻机即便是实现量产，ASML公司也不会给中国提供一台，这也让人们重新回忆起人民日报曾对我国的呼吁。

人民日报曾表示，我国当前将科技发展作为国家的重要战略是非常重要的，但是想要在芯片领域实现突破就不能过于依赖其他国家。如果没有掌握核心技术的话终有一日会被“卡脖子”，只有提高科研能力才是建设科技强国的重要条件。

在美国在芯片领域对我国“卡脖子”之前，我们一直就用进口代替自产，但是这却让我们处于被动的一方。未来即便是美国允许ASML公司向我国出口EUV光刻机，我们也无法获得最先进的核心技术。只有加大力度进行研发，才能够掌握话语权。

如今国外许多半导体领域的人才已经回到国内发展半导体，各大高校也在增加与半导体相关的科目。随着各大企业以及国家对半导体行业的投入以及重视，相信成为科技强国只是时间的问题。

ASML公司一旦研发出High-NA EUV光刻机，将会让芯片的精度更进一步，对全球的芯片市场将会产生重大的变革。但由于美国的限制，无论芯片市场怎么变革都与我国没有任何关系。这就需要我们重视人民日报的呼吁，只有实现自主研发才能掌握主动权。

如今我国的科技企业和有关部门已经开始在光刻机方面加大力度进行研发，如果相关技术取得突破的话中国就可能会彻底改变芯片市场。希望我国能够尽早迎来突破，在科技领域实现高速发展。

那么你认为未来我国是否能够在光刻机领域迎来突破呢？