ASML的态度发生变化主要还是在于中国在先进工艺方面取得的进展，特别是在当下备受关注的7纳米工艺上，业界人士指出只要中国能量产7纳米工艺，加上芯粒技术将可以满足中国芯片的绝大部分需求。其实7纳米工艺除了用ASML的EUV光刻机之外，还可以使用中国芯片企业已经拥有的DUV光刻机通过多重曝光技术实现，台积电第一代7纳米工艺就是以DUV光刻机生产的，而中国的芯片制造企业中芯国际已取得突破并正在推进量产。不过实现7纳米工艺除了需要光刻机之外，还需要光刻胶等材料，而这方面则受制于日本，据悉日本的信越化学、东京应化等占有光刻胶市场近九成的市场份额，垄断了这种材料，然而近期中国有企业宣布已经成功研制7纳米光刻胶，这让海外芯片业界大吃一惊。中国的芯片设备企业南大光电近期宣布它研发的ArF光刻胶已经通过了技术验证，可以支持7纳米工艺，并且已开始向客户交付，随着国产7纳米光刻胶开始交付，也就意味着国产7纳米工艺量产即将成为现实。

在光刻胶取得突破之后，国产的光刻机也在加快技术研发，业界原来预期今年内就能量产14nm的DUV光刻机，14纳米DUV光刻机其实也可以用于7纳米芯片的生产，而芯片制造的其他几大环节都已经取得突破，纯国产化的7纳米工艺成为现实或许就在眼前。眼见着中国的芯片制造国产化进展顺利，光刻机企业ASML近期就发生了重大的态度变化，它表示它是一家欧洲企业不应完全遵从美国的要求，ASML所在的荷兰也对此予以支持，ASML还在大举增加中国的员工数量，宣布未来3年大幅增加EUV光刻机和DUV光刻机的产能，这都被认为ASML对于向中国出售光刻机的态度出现松动。其实由不得ASML紧张，中国的光刻机产业在快速发展，日本光刻机也开始大举抢占中国市场，早前中国招标28台光刻机就将其中21台光刻机订单交给了日本企业，而ASML一台订单都没有得到。在当下全球芯片行业衰退的情况下，诸多芯片设备企业都为了生存而努力，中国作为全球最大的芯片设备市场更是被视为香饽饽和救命稻草，如果ASML无法从中国市场获得订单，那么ASML的业绩可能会因此而大幅衰退，日本光刻机则可以借助中国市场重振雄风，ASML回想当年被日本光刻机吊打的日子就不寒而栗。

不管ASML是否真的对中国自由出货光刻机，中国都应坚持自主研发，就如7纳米光刻胶那样，只要中国企业坚持研发，自主受控的芯片制造终究会变成现实，到那时候我们将不再被卡脖子，拥有更多主动权，那时候就会轮到ASML等海外芯片设备企业跪求中国采购了。