声明：本文皆有官方可靠信息来源，已赘述在文章中。
前言
国产光刻机的正式宣布，瞬间点燃了国内外科技界的关注热情，海外网友反响热烈，纷纷赞叹中国科技的飞跃。
而作为“西方巨头”和“光刻机的高端地位”的美国和荷兰却罕见的保持了沉默。
美荷的沉默究竟意味着什么？国产光刻机的崛起，是否会打破现有的芯片产业格局？
光刻机获得重大突破
9月9日，工信部公布我国重大技术装备推广目录中有氟化氩光刻机，这一消息如同一颗重磅炸弹，在全球科技领域引起了巨大的轰动。
光刻机的含金量有多大不用多说，尤其是在芯片的研发和制造上，光刻机有着无可替代的作用和地位，中国光刻机的公布，这也意味着中国光刻机的崛起。
国外网友对中国光刻机突破的评价各不相同，有人惊叹中国的发展速度，有人对中国的技术实力表示敬佩，也有人持怀疑态度，但无论如何，中国光刻机的突破已经成为全球关注的焦点。
长期以来，全球光刻机市场基本被荷兰的ASML公司垄断，中国的这次突破，打破了这种垄断局面，为全球芯片产业的发展带来了新的机遇和挑战。
中国光刻机的突破将促使全球光刻机市场的竞争更加激烈，ASML公司将不得不面对来自中国的竞争压力，加快技术创新和产品升级的步伐，保持自己在全球市场的领先地位。
其他光刻机制造商也将受到中国光刻机突破的影响，纷纷加大研发投入，提高产品性能，以在全球市场中占据一席之地。
一石激起千层浪，中国光刻机的突破就能让荷兰ASML公司产生一种危机意识，可见光刻机的重要性，也可以从另一方面体现出来中国在光刻机这个领域的崛起。
在国外视频网站上，瑞士网友感叹：“中国这回追上来了，ASML接下来要后悔了！”而就当外网在激烈讨论的时候，美荷却令人意外的沉默不语，那么美荷沉默的原因是什么呢？
沉默背后的原因
国产光刻机这次官宣在全球范围内引起了广泛关注，但从技术层面来看，目前的国产光刻机主要是相对初级的DUV光刻机。
对于光刻机而言，我们可以简单理解为能够产出的芯片精密度越小，含金量就越高，这就要求光刻机拥有极高的技术在里面。
然而，ASML的核心利益集中在7纳米及以下的高端芯片制造领域，而国产光刻机目前能够实现的是28纳米节点的制造，这意味着在技术上，两者之间仍然存在较大的差距。
在一些高端智能手机、高性能计算机等对芯片制程要求极高的领域，28nm工艺的芯片目前还无法满足需求，而7nm以下的芯片则能够提供更高的性能和更低的功耗。
这也就是说，中国目前对于荷兰ASML在光刻机的领域威胁还比较小，或者可以理解为还没有动他们的蛋糕，也就不会有太多动作。
EUV制造所需的系统较小，包括极紫外线光源、反射镜、复合材料、光刻胶和高纯度化学品等关键组件，这些主要由美国的Cymer公司、日本的专利持有者以及德国的制造商提供。
相比之下，我国使用的氟化氩（ArF）光刻机光源波长为193纳米，而荷兰ASML的极紫外（EUV）光刻机所使用的光源波长则是能缩短到13.5纳米，这比DUV光刻机的光源波长短了14倍以上。
EUV光刻机镜头精度也要比DUV高很多，据说把这个镜头总面积放大到德国一样大小，误差也不超过1毫米，这些技术优势让ASML在高端EUV光刻机领域的地位难以被轻易颠覆与超越。
当然还有另外一种可能是美荷可能在等待华为 Mate70的发布，在国产手机行列中，华为无疑是较为突出的一个存在，上新手机敢和苹果手机硬刚。
之前华为在芯片上还曾遭遇到美国的制裁，作为中国科技企业的代表，华为手机芯片的技术水平在一定程度上反映了中国在半导体领域的发展状况。
以小见大，不过中国向来奉行的都是拿出来的都是已经成熟的，“先进的技术”都是藏起来的，不会让其他国家察觉出一丝猫腻。
制裁接近最大化？
在此之前，ASML最先进的浸润式DUV光刻机的出口也受到了限制，再加上英伟达被禁止向中国出口高端芯片，以及美国持续施压，要求ASML终止对中国半导体设备的技术支持和服务。
在当前全球科技博弈的棋盘上，从高端技术到中低端市场，美国与荷兰的制裁措施似乎已触及极限，该用的不该用的限制手段都用过了。
面对中国国产光刻机取得的重大突破，这两个国家陷入了前所未有的困境，沉默成了它们最无力的回应。
而对于ASML来说也不敢有大的动作，中国市场对他们来说太重要了，在国际贸易上，中国对欧盟的反制还历历在目，ASML也担心自己会失去中国市场。
就拿今年第二季度的收益来说，ASML订单量增至56亿欧元，同比增长约24%，其中在中国区收入约为23亿欧元，在总收入中占比49%，如果把DUV市场都禁了，那么ASML的营收将遭受一半的重创。
目前，28nm基本上是成熟和先进制程的分界点，中国在中低端光刻机市场具有巨大的潜力，可能会逐渐占据优势，没有一个国家愿意坐以待毙，都会迎头追赶。
尽管国产光刻机已经能够实现28nm工艺芯片的量产，但在更高制程的芯片制造上，还需要进一步提升技术水平。
目前我国在一些关键零部件的制造上还存在短板，需要加强自主研发和生产能力，人才队伍建设也是一个重要挑战。
光刻机研发需要大量高素质的专业人才，包括光学工程师、机械工程师、软件工程师等。
虽然按照目前官方公布出来的信息，中国光刻机的技术还远远比不过ASML，但也算是实现了从0到1的突破，如果量产，那么中国还将成为世界上唯一一个能够单独量产光刻机的国家。
ASML的光刻机再厉害，也还是需要美国、德国和日本的“合作”，相信在不久的将来，中国将会早光刻机这个领域从“跟跑”到“并跑”甚至“领跑”。
