光刻胶是芯片制造的核心耗材，发挥着重要作用。而在这一领域，日本企业有着无法质疑的垄断地位。

JSR、东京应化、富士胶片以及信越化学这四家日本企业，占据了全球超70%的光刻胶市场。更值得注意的是，越是高端半导体光刻胶，日本企业的垄断程度便越高。

不仅如此，日本与美国还掌控了全球82%的光刻胶专利，形成了层层专利壁垒。

中国光刻胶产业则长期遭到日本企业的压制。中国超90%以上的半导体光刻胶依赖进口。尤其是在高端的KrF、ArF光刻胶领域，我国的国产化率仅为1%左右。

我国光刻胶高度依赖进口的境况令人不安，一旦日本对中国企业下手，中国芯片制造业势必将遭遇重创。前段时间信越化学向中国多家晶圆厂限制供应KrF级别光刻胶一事，便证明了我国的担忧并非多余。

好在，中国光刻胶企业在多年的攻坚后，终于迎来了收获期，好消息接连传来。而且，中国半导体材料国产替代进程加速，加之中国庞大的需求市场，给中国相关企业带来了崛起的巨大机遇。

7月5日，中国光刻胶龙头企业晶瑞股份公布2021年半年度业绩预告显示。今年上半年，公司将净利润在11300万元到14690万元，较上年至少增长456.58%，发展速度令人瞩目。

当然，晶瑞股份令人瞩目的不只是它的业绩，更是它在高端光刻胶上的突破。

据6月22日晶瑞股份消息，公司的KrF光刻胶完成中试，进入了客户测试阶段。下一步，公司将实现KrF光刻胶量产，进一步填补我国在这一领域的产能空白。

而在更高难度的ArF光刻胶上，晶瑞股份的研发工作也在如火如荼地进行。ArF（193nm）光刻胶能够用在90-28nm芯片的生产之中，具有十分重要的作用。

目前，晶瑞股份引入的、用于高端光刻胶研发的ArF光刻机已经到账，正在加紧调试之中。这将对晶瑞股份的研发速度，起到重要的推动力，令人十分期待。

晶瑞股份、南大光电等中国企业在苦干多年之后，终于扬眉吐气。如今，我国正一点点打破日本企业在高端半导体光刻胶领域的垄断，更进一步提升了中国芯片产业的国产化程度。

在不久后，中国也终于能够大批量地用上国人自己的高端光刻胶。