根据CINNO Research发布的《Q3半导体设备企业营收Top10榜单》数据，排名前五的还是“老熟人”，和同期排名没有区别，美企应用材料AMAT排名第一，荷兰ASML公司排名第二。可能很多人有疑问，ASML公司名气这么大，怎么只排在第二呢？

事实上，ASML公司之所以出名，是因为它是全球唯一能够量产EUV光刻机的企业，在先进半导体制造设备领域拥有很大的优势，但由于EUV光刻机的生产量有限，所以能够给ASML公司创造的营收也有限，那么要和AMAT拼营收，ASML公司可能还差点。

提到EUV光刻机，相信大部分小伙伴都知道，中芯国际曾经花了超十亿元想要采购，最终落了空。本以为EUV光刻机的价格已经相当高了，没想到，还有更昂贵的半导体设备在后面，它就是High-NA EUV光刻机。

进入3nm芯片时代后，硅基芯片已经临近物理极限了，所以先进工艺的竞争变得越来越激烈，除台积电、英特尔之外，三星、SK海力士等韩企也加快了先进工艺的研发和布局。而要生产2nm或1nm工艺芯片，EUV光刻机可能也无法满足厂商需求了，需要进一步升级High-NA EUV光刻机。

从命名来看，明显地，High-NA EUV光刻机在EUV光刻机的基础上进行了全面升级，它能够处理更加精细的集成电路，且将集光能力的镜头数值孔径，也就是NA，从0.33提升到了0.55，对于2nm芯片的制造很重要。

据外媒透露，一台High-NA EUV光刻机的售价大约在5000亿韩元左右，约合25.2亿元，比普通EUV光刻机的价格贵了约2倍。尽管High-NA EUV光刻机的价格已经接近“天价”了，但半导体制造厂商依然求购意愿强烈，比如三星。一点也不夸张，只要抢先拿到了Higj-NA EUV光刻机，就能在率先实现2nm芯片量产。

近日，ASML公司也明确表示，High-NA EUV光刻机最快就能推出。至于EUV光刻机，年产量也在持续上涨。预计EUV光刻机的生产数量能够超过50台。

很遗憾，中企一台也没有！在华为被“卡脖”之初，国内科技企业以及研发机构已经开始了国产光刻机的研发，但当时的ASML公司曾毫不遮掩的嘲讽中企，直言，“就算公开图纸，你们也不可能造得出来”。而人民日报就发出了，“核心技术买不来”的警示！这也是中国科技企业需要重视的！

不要寄希望于“买办”，就算老美松口，我们能够买到的设备也是“过时的”、“被淘汰的”，要想得到尊重，要想翻身农奴把歌唱，就要坚持自主研发，拥有先进的核心技术。就因为我们和西方国家之间的技术差距很大，才会被嘲笑，才会被打压。正所谓“不蒸馒头争口气”，中国芯就是要依靠自主研发，实现自给自足。这条路注定很艰难，但唯有这样，才能掌握主动权！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！