双工件台，即在一台光刻机内有两个承载晶圆的工件台。两个工件台相互独立，但同时运行，一个工件台上的晶圆做曝光时，另一个工件台对晶圆做测量等曝光前的准备工作。当曝光完成之后，两个工件台交换位置和职能，如此循环往复实现光刻机的高产能

在一套光刻系统里有两个硅片台，它们分别位于曝光位置和测量位置，两台独立且同时运行：当硅片台 1 在曝光位置进行步进扫描曝光时，硅片台 2 在测量位置完成硅片的上下片、硅片三维形貌测量等准备工作，当硅片台 1 完成整个硅片的曝光后，两台交换位置和职能，如此循环往复完成硅片的高效曝光。TWINSCAN双工件台光刻机的结构示意图如图1所示

双工件台的发明使光刻机的产能有了大幅度提高。传统的光刻机中只有一个工件台，晶圆的上下片、测量、对准、曝光都是顺序进行的；而在双工件台中，大部分测量、校正工作可以在另一个工件台上并行。先进光刻机要求有极高的对准精度，而对准精度与所需要的测量的对准标记数目成反比，即测量的标识越多，所能表达的对准精度越高。大量的测量必然导致单工件台光刻机的产能进一步下降。一般曝光的时间要大于测量和校正的时间，因此，在双工件台设计中系统可以做更多更复杂的测量，而不影响产能

‌光刻机减震器是光刻机稳定性和成品率的重要保障，能够减少外部振动和冲击，从而提高光刻机的超高精度加工能力。‌ 光刻机减震器被称为光刻机的“基石”，其性能直接影响光刻机的稳定性和成品率，是决定光刻机精度的关键因素之一‌。

光刻机减震器由几百个零件构成，其设计和制造非常复杂。现代光刻机减震器通常采用油气减振器和电子减振器等技术，通过压缩液体和气体来达到减振效果，并且能够快速恢复。电子减振器更是通过控制单元和传感器实时监控和调整减振水平，确保光刻机的稳定运行‌。

在光刻机的维护中，工业空气弹簧减震器的检查与保养也非常重要。这个看似不起眼的组件在光刻机的精准度和稳定性上扮演着关键角色。通过定期的检查和保养，可以确保光刻机的长期稳定运行和高精度加工‌

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机化合物。‌ 它通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度会发生变化，是一种耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成，主要用于光刻工艺过程中作为抗腐蚀涂层材料。‌

光刻胶按其形成的图像分类有正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶在曝光后溶解，未曝光部分保留；负性光刻胶则相反，曝光部分保留，未曝光部分溶解。按曝光光源和辐射源的不同，光刻胶又分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶和离子束胶等。

光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。在电子工业中，对所使用光刻胶有严格的要求，因为其生产技术较为复杂，品种规格较多。

光刻胶的发展历史可以追溯到19世纪末，当时德国人首次利用重氮化合物的感光性显示出影像。20世纪初，美国柯达公司发现了聚乙烯醇和肉桂酸酯在紫外光下有很强的交联反应并用于光学玻璃的蚀刻。随着技术的发展，光刻胶的应用范围不断扩大，从印刷工业到电子工业，不断演变成现代高科技领域的关键材料。

‌‌EDA软件是用于电子设计自动化的软件工具，旨在提高电子设计的效率和准确性，帮助设计师快速完成设计流程。‌ EDA软件涵盖了从概念设计到原型制造的整个电子产品开发流程，包括电路设计与仿真、布局布线、可靠性分析以及IC设计等领域。这些工具不仅自动化了设计流程，节省了设计师的时间和精力，还通过仿真和优化技术提高了设计的准确性和可靠性，避免了因设计错误导致的成本和时间的浪费。‌12

具体来说，EDA软件如‌Protel、‌PSPICE、‌multiSIM10等，不仅可以用于电路仿真和布局布线，还可以输出多种网表文件与第三方软件接口，增强了设计的灵活性和兼容性。设计师利用这些工具可以更高效地进行电路设计和测试，验证电路的正确性和性能，以及优化电路的布局和布线。此外，随着技术的进步，EDA软件还融入了系统内可编程技术，使得设计者能够在计算机中设计、修改电路，并通过下载电缆将设计下载至芯片中，进一步拓宽了电子设计的可能性。

总之，EDA软件是电子设计中不可或缺的工具，它不仅提高了设计效率，还确保了设计的准确性和可靠性，是现代电子设计自动化领域的重要基石。